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PREMA

英文简称: PREMA 英文全称: PREMA Semiconductor.
中文简称: 普芮玛 中文全称: 普芮玛半导体公司
所在地区: 美因茨(Mainz) 总部地点: 德国
公司官网: www.prema.com

PREMA品牌介绍

PREMA(PRecision-Electronics MAinz)的历史始于1970年,可以追溯到数字测量设备的开发和生产。该公司由Dr. rer. nat. Hartmut Grützediek和Dr. rer. nat. Joachim Scheerer创立,基于自主开发和专利的超高分辨率模拟-数字转换器(A/D转换器)。多年来,这些测量设备在该领域属于先锋和市场领导者。在成功经营了30年后,在2000年进行了从测量设备到半导体技术的战略转型。到那个时候,半导体技术已经成为生产的一部分。迄今为止,PREMA制造的测量设备仍然可以进行校准和维修。 1970年成立 开发、专利和生产具有超高分辨率的数字测量设备(A/D转换器)。 1977年开始半导体技术 结合掩模技术和ASIC设计的晶圆生产线组装。 1981年ASIC制造 ASIC采用双极技术制造,使用75 mm晶圆,用于模拟和混合信号电路,已用于工业中的消费产品、传感器和电子产品(也用于汽车应用)。 1988年新生产线 采用局部洁净室概念(SEMIC单元)和电子束掩模制造的新生产线概念。 1991年新公司大楼 搬迁到新的公司大楼,生产面积为8000平方米。 1996年150 mm晶圆产量 150 mm晶圆生产。 1999年ModuS U6-ASIC-Process 通用制造工艺为高性能模拟和混合信号电路树立了新的基准。 2000年改名 Precision-Electronics成为PREMA Semiconductor。 2002年停止生产测量设备 停止生产测量设备。 2004年ModuS-U6亮点 用于高压的NPN和PNP晶体管。 2007年光电二极管 集成光电二极管作为具有不同光谱灵敏度的传感器。 2012年200 mm晶圆 扩建200 mm晶圆生产线。 2013年光学编码器 适用于各种分辨率的光学编码器的单芯片和完整解决方案。 2016年减反射膜 介绍用于集成光电二极管的抗反射涂层。
应用领域:工业自动化、科研和教育、医疗设备、通信技术、军事和航空航天。

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