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TOPPAN
TOPPAN
英文简称:
TOPPAN
英文全称:
Toppan Photomasks, Inc.
中文简称:
Toppan Photomasks, Inc.
中文全称:
Toppan Photomasks, Inc.
所在地区:
美国
总部地点:
欧美
公司官网:
www.photomask.com/
TOPPAN品牌介绍
我们与世界各地的客户共同开发面膜技术的历史悠久。1996年,我们通过与客户建立协作开发模式,打破了光掩膜技术研究的模式。这一战略对我们的客户来说已经证明是非常成功的,行业内的其他人已经开始模仿这种方法。Reticle技术中心有限责任公司(RTC)成立于1996年,是世界上第一个光罩技术开发合资企业。我们与摩托罗拉,AMD和美光科技建立了这种合作关系,开发和生产用于亚波长光刻的光掩模。经过六年多的成功运作后,RTC的活动被纳入我们的RoundRock制造工厂,并在德国德累斯顿开设了一个新的研发机构AdvancedMaskTechnologyCenter(AMTC)。与联合创始人AMD和英飞凌科技一起,我们构建了AMTC,从90nm节点开始不断开发光掩模技术。今天,我们的德累斯顿业务运行28nm产品,是世界上最大的商业EUV光掩模供应商。2005年,我们扩展了与IBM的合作关系,共同开发先进的光掩模。我们共同开发了45nm,32/28nm和22/20nm技术周期的技术,目前我们正在开发实现14nm节点所需的光掩模技术。通过参与行业联盟IMEC和Selete,凸版继续实现未来。半导体市场的无情步伐需要创新的解决方案,而凸版的技术开发合作方式将引领光掩膜行业。
应用领域:
照明电子,消费电子,通讯/网络,交通/汽车
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